型号：VEGA 3 XMU 
产地：捷克共和国布尔诺市
服务课程：材料分析测试技术
主要规格及技术指标：1、电子枪：热发射钨灯丝；
                    2、分辨率：（二次电子）—3nm@30 kV、8 nm @ 3 kV、（背散射电子）：
                       3.5nm@30kV；
                    3、放大倍数：1×-1,000,000×；
                    4、样品台移动范围：X=130 mm，Y=130 mm， Z=100 mm ，T：-30°             
                       至+90°，R：360°连续；
                    5、样品室低真空范围：3--500 Pa。
主要功能及特色：
1、独有的四透镜大视野观察（Wide Field OpticsTM）设计，提供了多种工作模式和显示模式，可实现大视野无畸变的电镜观察。
2、结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪技术（In-Flight Beam Tracing™），可模拟和进行束斑优化。
3、镜筒不需要机械对中结构，完全自动设置显微镜，包括电子光路的设置和合轴。
4、完善的软件用于SEM控制，图像采集、存档、处理和分析；多用户多语言操作界面。
5、网络操作和内置的远程控制/诊断。